芯片

IR压降正成为越来越多设计中日益棘手的问题,这表明供电网络(PDN)未能在需要时为设计的某些部分提供足够的电流。不幸的是,这个问题没有简单的解决办法。
当前,芯片制造已迈入 3 纳米制程阶段,这相当于将 100 个原子紧密排列成一行。但传统光刻机如同用大刷子粉刷墙面,精度愈发难以满足芯片性能持续提升的需求。在此背景下,原子级制造技术应运而生,它仿佛为工程师配备了高倍显微镜与精准镊子,能够实现单个原子的操控与搭建,为芯片制造带来革命性突破。
这种扩张不仅是产量增长的结果,也是深刻的技术变革重新定义行业的结果。随着先进封装成为高性能计算 (HPC)、人工智能 (AI) 和汽车应用的关键,后端不再是事后诸葛亮。相反,它已成为半导体性能和系统级集成的关键推动因素。
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